一、设备简介

Talos F200i透射电子显微镜可以对材料形态、晶体结构、化学成分、界面结构、表面以及缺陷进行研究。纳米技术的兴起，材料研究越来越向微小尺度发展，高分辨TEM可以提供亚纳米级别的分辨能力，此仪器是探索决定物质表观特性微观本质的强有力工具。可实现对于多种材料的精准，多层次，多数据的分析，为科学研究提供强有力的工具。

二、检测原理

透射电子显微镜采用电子束做光源，电子束穿透样品后，经用透镜（电磁透镜）放大成像。样品放置在样品杆上，样品杆固定在样品台上，样品台置于真空系统中，显微镜主机的电子束经电子枪发射，在真空系统中穿过样品内部，并经多级透镜放大，经电子束专业相机采集收集成图像，设备采用透射经过样品的电子束对样品进行显微放大。

三、功能特色

高效率、超稳定镜筒设计  利用SmartCam实行远程操作；物镜功率恒定，可实现快速电镜模式和高压切换；可以快速，轻松地切换多用户环境。

可重复的可靠数据  所有日常的TEM调整，如聚焦，中心高度，光束偏移，聚光镜光阑对中，电子束倾斜枢轴点以及旋转中心调整都是自动的，以确保用户总是从最佳成像条件开始。实验可以多次重复，因而用户可以更多地关注研究课题本身而不是电镜的使用上。

快速大视场成像  大视场的 4k×4K Ceta CMOS 相机可以在整个高压范围内进行高灵敏度和高速度的实时数字变焦，更高效的活细胞成像。

自动化数据处理和联用 MAPS软件可以在整个样品上进行直观的图像导航，并在成像平台之间进行相关性分析。在高分辨率下进行大面积成像，MAPS 软件自动获取并缝合图像，以卓越的质量记录整个感兴趣区域。MAPS 可以跨多个工具使用，也可以在一个工具和工具中使用。它支持来自其它显微镜，例如SEM，Micro CT 或光学显微 镜的图像导入，覆盖和对准 。

四、技术参数

1、线分辨率：≤ 0.10 nm

2、扫描透射(STEM)分辨率：≤0.16 nm

3、加速电压： 20 kV – 200 kV高压，连续可调

4、电子枪类型：高稳定度的肖特基场发射电子枪

5、高分辨CMOS相机像素：感应尺寸：4,096 4,096像素，像素大小：≥14μm14μm

6、真空度：电子枪真空度< 5 ×10-6 Pa；样品区真空度< 2.0 x10-5 Pa

五、应用范围

透射电子显微镜是材料科学研究中十分重要的分析工具。可以进行样品的形貌分析，结构分析和成分分析。形貌分析：它获得非晶材料的质厚衬度像，多晶材料的衍射衬度像和单晶薄膜的相位衬度像(原子像)。结构分析：电子衍射，原子位错，孪晶类型，晶界结构等研究。成分分析：小到纳米尺度的微区或晶粒的成分分析。